系统具有6个磁控溅射源，线性排布
样品基板经过磁控管的线性运动并叠加旋转运动，能够实现优异的沉积均匀性和梯度膜层的制备。
• 系统具有6个线性磁控源，可实现多层膜沉积
• 通过同步线性运动和旋转运动叠加，在光学基板上形成均匀膜层或梯度膜层
• 系统可配置离子源，用于基板表面处理
• 带自动装载系统
• 样品基板面竖直放置，减少颗粒污染
| 样品尺寸 | 矩形基板up to 500 mm x 300 mm,圆形基板up to Φ300 mm |
| 溅射源 | 6矩形磁控管 (305 mm x 89 mm), i可配置离子源 |
| 溅射模式 | DC : 连续 或 脉冲(1.5 or 3 kW) RF (1.5 or 3 kW, 13.56 MHz) |
| 基础真空 | < 5 x 10-8 mbar |
| 系统尺寸 | 8.10 m x 1.40 m x 2.80 m (不含电控柜与真空泵) |
| 配置 | 两端带Loadlock的内联系统 |
| 软件界面 | SECS II / GEM, OPC |
• EUV反射镜的梯度多层膜
• 用于光束线和分析应用的X射线反射镜的多层膜
• 典型沉积速率
钼：48.9 nm x mm/min
硅：35.8 nm x mm/min
• 均匀性变化
直径300 mm以上<1%（σ/平均值）
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