用于高质量地清洁大尺寸三维形状的样品，直径可达3m，长3.4m，重量可高达14T。真空室的特殊设计和功能确保了非常好的基础真空度，并允许用质谱测量法来量化微小的残留污染。
- X射线光学元部件的超高纯清洗
- 清洗同步辐射光束加速器部件
- 复杂真空组件的排气品控
- 利用超高真空(真空析解)去除三维形状样品的内部与外表污染物
- 通过可选的对样品/真空腔室加热(热析解)和等离子体处理，实现进一步深度析解
技术
干法清洗允许使用不同的方法清除真空中衬底表面的污染。这些方法可相继应用，以优化清洗效果。
| 底板尺寸(最大) | 口径 1000 mm，长 850 mm，重 500 kg |
| 样品加热 | 辐射加热器(7.5 kW)可达 250℃ |
| 真空腔加热和冷却 | 高压水加热至150℃，冷却(16 kW ) |
| 基础真空度 | < 5 x 10 -9 mbar |
| 等离子体源（可选） | ICP 等离子体源 (PI400), 2.5 kW，可选最多2个 |
| 质量控制 | 用于计量排气的质谱仪 |
| 系统尺寸(WxDxH) | 1.60 m x1.80 m x 2.70 m (不计机柜和真空泵) |
| 配置 | 带有前门、手动装载和运输车的单腔室 |
| 软件界面 | SECS II / GEM, OPC |
| 底板尺寸(最大) | 口径 1500 mm，长 1700 mm，重 2t |
| 底板加热 | 辐射加热器(20kW)可达250℃ |
| 真空腔加热和冷却 | 高压水加热至150℃，冷却(48kW) |
| 等离子体源（可选） | ICP 等离子体源 (PI400), 2.5 kW，可选最多10个 |
| 基础真空度 | < 5 x 10-9 mbar |
| 质量控制 | 用于计量排气的质谱仪 |
| 系统尺寸(WxDxH) | 8m x4.20m x3.60m (不计机柜和真空泵) |
| 配置 | 带有前门、手动装载和运输车的单腔室 |
| 软件界面 | SECS II / GEM, OPC |
| 底板尺寸(最大) | 口径 3000mm，长 3400 mm，重 14t |
| 底板加热 | 辐射加热器(40kW)可达250℃ |
| 真空腔加热和冷却 | 高压水加热至150℃，冷却 (96 kW) |
| 等离子体源（可选） | ICP 等离子体源 (PI400), 2.5 kW，可选最多12个 |
| 基础真空度 | < 5 x 10-9 mbar |
| 质量控制 | 用于计量排气的质谱仪 |
| 系统尺寸(WxDxH) | 15m x5.50m x4.80m (不计机柜和真空泵) |
| 配置 | 带有前门、手动装载和运输车的单腔室 |
| 软件界面 | SECS II / GEM, OPC |
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